上海微電子推出新一代先進封裝光刻機 首台年內交付

9月18日，上微舉行新產品發布會，宣佈推出SSB520型新一代大視場高分辨率先進封裝光刻機。此次推出的新品光刻機主要應用於高密度異構集成領域，具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光視場等特點。

綜合媒體9月20日報道，從上微電子官網了解到，新一代封裝光刻機品投影物鏡系統全面升級，可滿足0.8μm分辨率光刻工藝需求，極限分辨率可達0.6μm；通過升級運動、量測和控制系統，套刻精度提升至≤100nm，並能保持長期穩定性。

此外，曝光視場可提供53mm×66mm（4倍IC前道標準視場尺寸）和60mm×60mm兩種配置，可滿足異構集成超大晶片封裝尺寸的應用需求。

公開資料顯示，上海微電子裝備集團成立於2002年，主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、生產、銷售與服務，公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等製造領域。